Twngsten Silicide Powder WSi2 Powdwr

Mae silicid twngsten (WSi2) yn gyfansoddyn anorganig sy'n silicid twngsten. Mae'n ddeunydd cerameg dargludol.

Defnyddir mewn microelectroneg fel deunydd cyswllt â gwrthedd 60-80 μΩ cm; Mae'n ffurfio ar 1000 gradd. Fe'i defnyddir yn aml fel siynt ar gyfer gwifrau polysilicon i gynyddu eu dargludedd a chyflymder y signal. Gellir paratoi'r haen silicid twngsten trwy ddyddodiad anwedd cemegol, er enghraifft trwy ddefnyddio monosilane neu dichlorosilane gyda hecsafluorid twngsten fel ffynhonnell y nwy. Mae'r ffilm a adneuwyd yn anstoichiometrig ac mae angen ei anelio i'w throsi i ffurf stoichiometrig fwy dargludol. Mae silicid twngsten yn ddewis arall cynnar i ffilm twngsten. Defnyddir silicid twngsten hefyd fel haen rhwystr rhwng silicon a metelau eraill megis twngsten.

Mae gan silicid twngsten hefyd gymwysiadau mewn systemau microelectromecanyddol, ac fe'i defnyddir yn bennaf fel ffilm denau i gynhyrchu cylchedau micro-raddfa. At y diben hwn, gellir ysgythru plasma ffilmiau silicad twngsten gan ddefnyddio, er enghraifft, nwy nitrogen trifflworid.

Mae WSi2 yn perfformio'n dda mewn haenau gwrth-ocsidiad. Yn benodol, yn debyg i ddadileiddiad molybdenwm (MoSi2), mae emissivity uchel disilicide twngsten yn gwneud y deunydd hwn yn ddeniadol ar gyfer oeri ymbelydrol tymheredd uchel ac yn effeithio ar amddiffyniad thermol.